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Galvanoplastia de cobre
Analisadores confiáveis e precisos são necessários para um processo de galvanoplastia de cobre eficiente e eficaz
Entre outros motivos, a galvanoplastia de cobre é utilizada para garantir boa condutividade ou proporcionar resistência à corrosão. O monitoramento da composição do banho de galvanoplastia e de suas impurezas é fundamental para uma deposição de cobre uniforme e confiável.
Conte com a Metrohm para instrumentos analíticos de alta qualidade, know-how e serviço de primeira classe no local para apoiar seu processo de galvanoplastia de cobre.
Aproveite nossa presença em mais de 80 países, com mais de 50 subsidiárias e 30 distribuidores exclusivos.
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Desenvolvimento automatizado de métodos CVS e otimização de banhos de galvanoplastia multicomponentes
Baixe este Documento Técnico e saiba mais sobre como otimizar métodos CVS para a análise de banhos de galvanoplastia de cobre.
Produtos
A Metrohm ajuda fabricantes a manter revestimentos de alta qualidade, prolongar a vida útil dos banhos e alcançar resultados consistentes e reprodutíveis em processos de galvanoplastia de cobre, com soluções confiáveis para laboratório e processo.
Sistemas VA/CVS Professional
Analisadores de bancada flexíveis para Cyclic Voltammetric Stripping.
2060 Plataforma
A plataforma de analisador modular, robusta e confiável, oferece flexibilidade máxima no monitoramento personalizado de processos.
OMNIS
Prepare-se para atender a nova referência em titulação: resultados mais rápidos, manuseio mais seguro de produtos químicos e adaptabilidade mais fácil às suas exigências.
- AN-V-242brightRC – Advanced brightener analysis with a response curve
brightRC enables reliable CVS (or CPVS) brightener quantification without repeated standard additions, especially for additive systems with nonlinear signal behavior. By using external response curve (RC) calibration and flexible regression, it avoids systematic errors inherent to linear standard addition methods and significantly reduces analysis time. This makes brightRC ideal for high throughput routine control in stable copper plating baths.
- WP-097Why switch to OMNIS Client/Server (C/S)?
OMNIS Client/Server boosts business performance with scalable server management, cutting costs by reducing hardware, energy use, and maintenance across locations.
- AN-PAN-1067Online analysis of organic additives in copper plating process
Monitoring organic additives in copper plating baths is crucial. The 2060 CVS Process Analyzer optimizes copper electroplating by providing precise bath control.
- AN-T-124Photometric copper determination in aqueous solution
Copper can be determined using photometric titration with EDTA at a wavelength of 520 nm.
- AN-T-100Chloride in acidic copper baths
Acid copper baths are mainly used for the copper deposition on semiconductor wafers. Small amounts of chloride increase the speed of deposition and reduce anode polarization. However, higher concentrations are undesired, as this will decrease the quality of the copper deposition. Therefore, it is quite important to monitor the amount of chloride to have an effective, yet high-quality copper deposition process. In this Application Note, a fully automated solution based on titration is presented. In comparison to ion chromatography, titration offers the benefit that no dilution of the sample is necessary, and the hardware is comparatively low-priced. Furthermore, the fully automated solution allows users to minimize handling errors, to reduce workloads, and to guarantee outstanding reproducibility.
Eventos e webinars
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