メトロームの分析装置でおこなわれた 2,200 件以上の最先端アプリケーションをご覧いただけます。
効率的で効果的な銅めっき工程には、信頼性が高く精密な分析装置が必要です。
銅めっきは、他の理由のほかに、良好な導電性を確保したり、耐食性を付与したりするために用いられます。均一で信頼性の高い銅析出を実現するには、めっき浴の組成および不純物をモニタリングすることが重要です。
銅めっき工程向けの分析装置、ノウハウ、オンサイトサービスについては、メトロームにお任せください。
メトロームは、世界80か国以上に広がる拠点、50を超える子会社、30の特約輸入代理店があります。ぜひご活用ください。
最新の分析方法を紹介
Automated CVS method development and optimization of multicomponent plating baths
Download this White Paper to learn more about how to optimize CVS methods for the analysis of electroplating copper baths.
分析装置
メトロームは、信頼性の高いラボおよびプロセス向けソリューションにより、メーカーが高品質なコーティングを維持し、めっき浴液の寿命を延ばし、銅めっき工程で一貫性のある再現可能な結果を得られるようサポートします。
CVS分析計 894プロフェッショナル CVS
CVS分析装置（サイクリックボルタンメトリックストリッピング分析装置）は、DT、MLAT、RCなどの各種方法を使用した硫酸銅めっき浴の有機添加物（サプレッサー、ブライトナー、レベラー）の測定を行います。サンプルチェンジャーを接続して連続自動分析も可能です。
2060プラットフォーム (プロセス用オンライン分析計)
モジュールを組み合わせることで、滴定、水分、pH、導電率、イオンクロマトグラフ、近赤外分析、吸光度、ラマン分光、蛍光X線、などの測定が、24時間 / 365日モニタリングできるオンライン分析計（プロセス分析計）シリーズ
OMNISタイトレーター
メトロームのOMNIS（オムニス）自動滴定装置は、異なる滴定を1台で4種類同時に完全自動分析できるほか、分解能が最大10万分の１の電動ビュレットを装備、175検体連続測定可能など、今までにない新次元の自動滴定装置です。
- AN-V-242brightRC – Advanced brightener analysis with a response curve
brightRC enables reliable CVS (or CPVS) brightener quantification without repeated standard additions, especially for additive systems with nonlinear signal behavior. By using external response curve (RC) calibration and flexible regression, it avoids systematic errors inherent to linear standard addition methods and significantly reduces analysis time. This makes brightRC ideal for high throughput routine control in stable copper plating baths.
- WP-097なぜOMNISクライアント／サーバー（C/S）に切り替えるべきなのか？
OMNISクライアント/サーバーは、拡張性のあるサーバー管理により業務効率を向上させ、拠点全体のハードウェア、エネルギー使用量、保守コストを削減することでコスト削減を実現します。
- AN-PAN-1067銅めっきプロセスにおける有機添加剤のオンライン分析
銅めっき浴における有機添加剤のモニタリングは重要です。2060 CVSプロセスアナライザーは、精密な浴制御を提供することで銅電気めっきを最適化します。
- AN-H-043Determination of copper by iodometric titration
Determination of copper, principally in copper mining and refining solutions. The method may also be used fordetermination of purity of copper metal. Optimal results are obtained when aliquots containing copper in the rangeapproximately 3 - 6 mmol Cu are titrated.
- AN-T-100【技術資料】自動滴定装置による酸性銅めっき浴中の塩化物イオンの測定
この技術資料では、電位差自動滴定装置を使用した酸性銅鍍金液浴中の塩化物イオン測定を紹介しています。
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