Khám phá hơn 2,200 ứng dụng tiên tiến, sử dụng công nghệ phòng thí nghiệm chính xác và tối ưu nhất.
Các thiết bị phân tích chính xác và đáng tin cậy là yếu tố cần thiết để đảm bảo quy trình mạ đồng hiệu quả và ổn địn
Quy trình mạ đồng được sử dụng vì nhiều lý do, trong đó có việc đảm bảo độ dẫn điện tốt hoặc tăng khả năng chống ăn mòn. Việc giám sát thành phần và tạp chất trong bể mạ là yếu tố then chốt để đạt được lớp phủ đồng đồng đều và đáng tin cậy.
Hãy tin tưởng Metrohm – nhà cung cấp thiết bị phân tích chất lượng cao, kiến thức chuyên môn sâu rộng và dịch vụ hỗ trợ tận nơi hàng đầu – giúp bạn tối ưu hóa quy trình mạ đồng.
Tận dụng mạng lưới toàn cầu của chúng tôi, hoạt động tại hơn 80 quốc gia, với hơn 50 chi nhánh và 30 nhà phân phối độc quyền trên toàn thế giới.
Hãy khám phá những giải pháp phân tích tiên tiến nhất
Tự động hóa phát triển phương pháp CVS và tối ưu hóa bể mạ nhiều thành phần
Tải White Paper này để tìm hiểu thêm về cách tối ưu hóa các phương pháp CVS trong phân tích bể mạ đồng điện phân.
Sản phẩm
Metrohm hỗ trợ các nhà sản xuất duy trì lớp phủ chất lượng cao, kéo dài tuổi thọ bể mạ, và đạt được kết quả ổn định, có thể lặp lại trong quy trình mạ đồng, thông qua các giải pháp phân tích trong phòng thí nghiệm và trực tuyến đáng tin cậy.
Thiết bị Professional CVS
Thiết bị phân tích benchtop linh hoạt cho CVS.
Máy phân tích Online 2060
Nền tảng thiết bị chắc chắn và đáng tin cậy với thiết kế mô đun tùy chỉnh tối đa hóa sự linh động trong việc giám sát online.
Máy chuẩn độ điện thế OMNIS
Sẵn sàng đáp ứng tiêu chuẩn mới trong chuẩn độ điện thế: Cho ra kết quả nhanh hơn, thao tác với hóa chất an toàn hơn và dễ dàng tương thích với nhu cầu chuyên biệt của bạn.
- AN-V-242brightRC – Advanced brightener analysis with a response curve
brightRC enables reliable CVS (or CPVS) brightener quantification without repeated standard additions, especially for additive systems with nonlinear signal behavior. By using external response curve (RC) calibration and flexible regression, it avoids systematic errors inherent to linear standard addition methods and significantly reduces analysis time. This makes brightRC ideal for high throughput routine control in stable copper plating baths.
- WP-097Tại sao chuyển sang OMNIS Client/Server (C/S)?
OMNIS Client/Server nâng cao hiệu suất kinh doanh nhờ khả năng quản lý máy chủ linh hoạt, giúp cắt giảm chi phí thông qua giảm phần cứng, tiêu thụ năng lượng và bảo trì tại nhiều địa điểm.
- AN-PAN-1067Online analysis of organic additives in copper plating process
Monitoring organic additives in copper plating baths is crucial. The 2060 CVS Process Analyzer optimizes copper electroplating by providing precise bath control.
- AN-T-124Photometric copper determination in aqueous solution
Copper can be determined using photometric titration with EDTA at a wavelength of 520 nm.
- AN-T-100Chloride in acidic copper baths
Acid copper baths are mainly used for the copper deposition on semiconductor wafers. Small amounts of chloride increase the speed of deposition and reduce anode polarization. However, higher concentrations are undesired, as this will decrease the quality of the copper deposition. Therefore, it is quite important to monitor the amount of chloride to have an effective, yet high-quality copper deposition process. In this Application Note, a fully automated solution based on titration is presented. In comparison to ion chromatography, titration offers the benefit that no dilution of the sample is necessary, and the hardware is comparatively low-priced. Furthermore, the fully automated solution allows users to minimize handling errors, to reduce workloads, and to guarantee outstanding reproducibility.
Sự kiện & Hội thảo trực tuyến
Bạn vẫn chưa tìm thấy lĩnh vực bạn quan tâm
Hãy liên hệ với đại diện Metrohm để được tư vấn giải pháp tốt nhất cho yêu cầu của bạn.